Im Rahmen der SPIE Photomask Technology Conference in Kalifornien hat Martin van den Brink,
Präsident und CTO des niederländischen Fabrikausrüsters ASML, die aktuellen Fortschritte bei der anstehenden EUV-Lithografie erläutert. In der Serienfertigung erwartet Brink die Technik erst bei 7 nm.
