EUV-Lithografie: ASML beschießt Zinntropfen künftig 300.000-mal pro Sekunde

24.02.2026 13:54 Uhr, Quelle: Heise

Belichtungssysteme von ASML sollen 2030 rund 50 Prozent mehr Wafer belichten können als bisher. Das erfordert komplexe Technik.