Forscher des Massachusetts Institute of Technology (MIT) haben eine Produktionsverfahren für Mikrochips entwickelt, das sehr kleine Strukturgrößen ermöglicht. Mit einer Abwandlung eines gängigen Lithografieverfahrens zum Erzeugen von Chip-Strukturen konnten sie Linien mit einer Breite von 25 Nanometern und ebenso großen Abständen erzeugen.
