25.02.2016 12:20 Uhr, Quelle: ComputerBase

Fertigungstechnik: Der lange Weg zu EUV

Auf der SPIE Advanced Lithography Conference wird in diesen Tagen über den aktuellen Stand von Lithografie- und Fertigungsverfahren informiert. Im Fokus steht dabei an erster Stelle die neue EUV-Lithografie, auf die alle großen Chiphersteller setzen, welche jedoch weiterhin mit Herausforderungen kämpft.

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