ASML und TSMC haben einen weiteren Meilenstein auf dem Weg zur Serienfertigung mit der neuen EUV-Lithografie überschritten. Mit einer über 90 Watt starken Lichtquelle wurden bei TSMC 1.022 Wafer binnen 24 Stunden belichtet. Der bisherige Höchstsatz lag bei lediglich 637 Wafern, die von IBM mit ASML-Geräten belichtet wurden.
