09.09.2026 13:54 Uhr, Quelle: golem

High-NA-EUV: ASML plant größere Masken, Intel knackt die Millionen-Wafer-Marke

Größere Masken bringen bei High-NA-EUV die aktuelle Reticle Size zurück. Intel nutzt ASMLs nächste Scanner-Generation bereits in der Serienfertigung. (Halbleiterfertigung, Intel)

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