17.07.2019 13:10 Uhr, Quelle: ComputerBase

EUV-Lithografie: ASML NXE:3400C belichtet 2.000 DRAM-Wafer pro Tag

Vor drei Monaten hat ASML eine Erhöhung der Leistung der EUV-Systeme in Aussicht gestellt, jetzt liefert der Fabrikausrüster. Dies soll vor allem Kundschaft in der DRAM-Fertigung locken. Mit einer Simulation von 2.000 DRAM-Wafern pro Tag soll die Einsatzbereitschaft bald gewährleistet sein.

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