17.10.2018 12:10 Uhr, Quelle: ComputerBase

ASML: EUV-Maschinen belichten bald 155 Wafer pro Stunde

ASML erklärt am Rande der neuen Quartalszahlen, dass ihre EUV-Belichtungssysteme stetig zuverlässiger im Serieneinsatz mit 125 Wph sind. Im kommenden Jahr werden die Scanner auf bis zu 155 Wafer pro Stunde aufgewertet – dann startet bei vielen Partnern die großflächige Serienproduktion.

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