26.02.2015 17:19 Uhr, Quelle: Heise

ASML und TSMC melden Erfolg bei der EUV-Lithografie

TSMC ist es im Testbetrieb mit dem ASML-Lithografiesystem Twinscan NXE:3300B EUV gelungen, innerhalb von 24 Stunden mehr als 1000 Wafer zu belichten; mit diesem Durchsatz rückt die Rentabilität der EUV-Lithografie näher.

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