Forscher von der University of California at Berkeley haben eine neue Technologie für die Chipfertigung entwickelt. Laut dem Leiter des Forschungsprojekts, Xiang Zhang, macht die "plasmonische Nanolithografie" genannte Technik eine bis zu 100-mal höhere Strukturendichte möglich. Mikroprozessoren sollen sich so bei mehr Leistung auf ein Zehntel der Größe schrumpfen lassen.
