Das US-Unternehmen "Molecular Imprints" (MII) meldet einen Erfolg bei dem Bestreben, ein neues Verfahren für die Herstellung von Halbleitern zur Serienreife zu führen. MII zufolge wurden bei Toshiba, die von MII mit Maschinen beliefert werden, erstmals CMOS-Schaltungen in 22 Nanometern Strukturbreite hergestellt - und zwar nicht durch die sonst üblichen Belichtungsverfahren.
