In einer IBM-Forschungseinrichtung hat eine Lithografiemaschine von ASML mit dem zukünftigen Standard der „extremen“ ultravioletten Lichtquelle (EUV) in 24 Stunden 637 Wafer erfolgreich belichtet. Damit wurde das Ziel von 500 Wafern in 24 Stunden, welches für Ende des Jahres ausgegeben wurde, bereits übertroffen.
