15.06.2011 11:05 Uhr, Quelle: ComputerBase

Elpida nutzt erstmals High-k Metal Gate für DRAM

Der japanische DRAM-Hersteller Elpida nutzt für die Entwicklung eines zwei Gigabit großen, in einem Prozess der 40-Nanometer-Klasse gefertigten LPDDR2-Chips erstmals im DRAM-Bereich „High-k Metal Gate“-Technologie (HKMG), die dem Endverbraucher noch am ehesten von Intels Prozessoren bekannt sein dürfte.

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